Webイオン窒化処理温度が5500cの場合は、表面硬さ及 び硬化層深さ（表面から中心硬さ＋Hv50までの距 離）は熱処理には殆ど影響されず、その表面硬さは HvllOO～1150、硬化層深さは0．1mmで、中心部の硬 さば処理前に比べてHvで150～200低下している。 一方イオン窒化処理温度が4000Cの場合は、表面硬 さは約Hvl170が得られているが、硬化層 … Webこの時のアンモニアの分解率は30％前後にします。この処理によって深さ0．2～0．3mm、1000～1200HVの硬さが得られます。耐摩耗性、耐食性に優れた特性が得られますが、処理時間の長いのが欠点です。 プラズマ窒化 （イオン窒化）

Trench gate type semiconductor device, and method of …

http://www.kic-ion.co.jp/index.html Web窒化層はFe3N、などの窒化物から成り耐熱性に優れます。 [耐食性＝優] 窒化層の表面に生成する白層（ε層）は対アルカリ性を示します。 ガス窒化の表面硬さと窒化層深さ 窒化による寸法変化 窒化処理後の諸性質 最高硬度と窒化層の厚さ 窒化層の耐熱性 窒化前と窒化後も機械的性質 窒化前と窒化後も機械的性質 normal value of plt

九州イオン窒化センター株式会社

Web昭和56年には、九州では初となるイオン窒化装置を導入し、様々な経験と実績を積み重ね 本日に至るまで各方面より厚い信頼を得ております。 今後もお客様に満足頂ける製品 … Web3．2 ラジカル窒化処理法の窒化硬度および 窒化深さ 773Kで各時間ラジカル窒化処理法を施したSKH51の深 さ方向の硬度分布をFig.8 に示す．窒化時間の増加により 窒化深さは増大し，21.6ks で約0.1mm までの窒化深さと Fig.8. Depth profiles of Vickers hardness for SKH51 radical nitrided at 773K. なった．この窒化挙動は窒化温度および時間が因子とな … how to remove smoke from room